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3D封裝技術:結構類型、特點與應用場景分析
3D封裝(3D Packaging)是先進封裝技術的核心代表,它通過在垂直方向上堆疊多個芯片或晶圓,并通過硅通孔(TSV)等技術進行互連,實現了系統性能的巨大飛躍。它被視為延續“摩爾定律”生命力的關鍵技術之一。
3D封裝不是一個單一的技術,而是一個技術家族。主要可以分為以下幾類:
1. 2.5D 封裝(2.5D Integration)
結構: 這是一種過渡到真正3D封裝的技術。多個芯片并排排列在一個中介層(Interposer) 上。這個中介層通常由硅制成(也可用玻璃或有機材料),內部有高密度的互連線(如微凸塊和再分布層RDL),并通過硅通孔(TSV) 與下方的封裝基板(如PCB)連接。
特點:
核心是中介層:它提供了遠超傳統PCB的互連密度和帶寬。
芯片異構集成:可以將不同工藝節點、不同功能的芯片(如CPU、GPU、HBM內存)集成在一起。
熱管理相對容易:芯片是平鋪的,散熱路徑比3D堆疊更直接。
代表性技術: CoWoS(臺積電)、HBI(英特爾)、SLIM(三星)。
2. 3D 堆疊封裝(3D Stacking / 3D IC)
結構: 這才是真正的3D封裝。芯片直接在垂直方向上進行堆疊。芯片之間通過微凸塊(Micro-bumps) 和硅通孔(TSV) 進行直接、最短路徑的互連。
特點:
極致的互連密度和帶寬:TSV提供了芯片間最短的垂直互連,延遲極低,帶寬極高。
外形尺寸最小化:極大地節省了空間。
熱挑戰巨大:堆疊的芯片會產生“熱點”,散熱是最大難題。
設計復雜:需要考慮應力、熱膨脹系數匹配、信號完整性等諸多問題。
子分類:
同質堆疊:堆疊相同類型的芯片,如HBM內存(多個DRAM die堆疊)。
異質堆疊:堆疊不同功能的芯片,如邏輯芯片堆疊在存儲芯片之上。
代表性技術: SoIC(臺積電)、Foveros(英特爾)、X-Cube(三星)。
3. 芯片堆疊封裝(Chip-on-Wafer / Wafer-on-Wafer)
結構: 這是3D堆疊的兩種制造方式。
CoW(Chip-on-Wafer): 將已知良好的芯片(KGD)堆疊到晶圓上。
WoW(Wafer-on-Wafer): 將整個晶圓直接鍵合到另一片晶圓上,然后進行切割。
特點:
CoW: 良率高,但工藝更復雜。
WoW: 工藝簡單,但如果底層晶圓有一個壞點,整個堆疊芯片都會報廢,良率挑戰大。
4. 扇出型封裝(Fan-Out Packaging)與3D結合
結構: 先將芯片嵌入到環氧樹脂模塑料中,然后在模具上制作高密度的再分布層(RDL)來實現互連和I/O扇出。它可以作為基礎,在其上再進行2.5D或3D堆疊。
特點:
無需中介層和TSV,成本較低。
可以實現更大的封裝尺寸和更多的I/O數量。
是集成無源器件和異質芯片的良好平臺。
代表性技術: InFO(臺積電)。
優點:
性能提升:
高帶寬: TSV和微凸塊提供了遠超傳統線鍵合的互連密度,實現了TB/s級別的帶寬(如HBM)。
低延遲: 垂直互連將互連長度從厘米級縮短到微米級,顯著降低了信號傳輸延遲和功耗。
低功耗: 更短的互連意味著更小的寄生電容和電阻,從而降低驅動信號所需的功耗。
異構集成: 允許將采用不同工藝技術優化過的芯片(如數字、模擬、RF、MEMS、光電子)集成到一個封裝中,實現“最佳工藝干最佳的事”。
小型化與輕量化: 顯著減小了封裝尺寸和重量,迎合了移動設備、物聯網設備對極致體積的需求。
功能多樣化: 在一個封裝內實現完整的系統功能,邁向“系統級封裝”(SiP)和“芯片級系統”(SoC)。
挑戰:
熱管理: 堆疊芯片導致功率密度急劇上升,熱量難以從中間層散出,過熱會嚴重影響性能和可靠性。需要創新的散熱材料(如導熱硅脂、釬焊)、微流體冷卻等技術。
制造成本高: TSV刻蝕、薄膜沉積、晶圓鍵合等工藝復雜,良率管理困難,導致成本高昂。
設計與測試復雜: 需要全新的3D EDA設計工具,進行熱、應力、電氣的協同仿真。測試需要在堆疊前(Known Good Die)和堆疊后進行,策略復雜。
可靠性問題: 不同材料的熱膨脹系數(CTE)不匹配會導致熱應力,可能引起界面分層、TSV開裂、凸點疲勞等問題。
高性能計算(HPC)與人工智能(AI)
場景: AI訓練芯片、GPU、數據中心CPU、FPGA等。這些芯片需要處理海量數據,對內存帶寬和計算單元之間的通信效率要求極高。
應用: 普遍采用 2.5D封裝 + HBM 的模式。例如,NVIDIA的GPU(A100, H100)、AMD的EPYC CPU和Instinct GPU、以及各種AI加速卡,都采用臺積電的CoWoS技術將邏輯芯片和多個HBM堆疊內存集成在一起,以提供前所未有的內存帶寬。
大容量存儲器
HBM(高帶寬內存): 是3D堆疊最成功的應用典范。將多個DRAM芯片通過TSV垂直堆疊,與GPU/CPU通過2.5D中介層互聯,廣泛用于HPC和AI領域。
3D NAND Flash: 通過3D堆疊技術將存儲單元層數堆疊到數百層,在不增大芯片面積的情況下指數級提升存儲容量,是現代SSD的核心技術。
場景: 需要大容量且高速的存儲解決方案。
應用:
移動與消費電子
PoP(Package-on-Package): 一種早期的3D封裝形式,將移動處理器(SoC)和內存(LPDDR)上下堆疊,節省了主板空間。
扇出型封裝(InFO): 如蘋果的A系列/A仿生芯片,采用臺積電InFO技術,實現了更小尺寸、更佳散熱和性能。
異質集成: 將處理器、電源管理芯片、射頻模塊等集成于一個封裝內。
場景: 智能手機、平板電腦、可穿戴設備等,對尺寸、功耗和性能有極致要求。
應用:
物聯網(IoT)與邊緣計算
場景: 傳感器節點、智能設備等,要求小體積、低功耗、多功能集成。
應用: 3D封裝可以將傳感器、微處理器、存儲器、無線通信模塊(如NB-IoT、LoRa)和電源管理單元(PMIC)高效地集成在一個微小封裝內,形成完整的片上系統(SoS)。
汽車電子
場景: 自動駕駛(ADAS)、智能座艙、車載信息系統。
應用: 需要處理大量傳感器(攝像頭、雷達、激光雷達)數據,對計算能力和可靠性要求極高。3D封裝可以提供高性能、小型化且符合車規級可靠性的解決方案,例如將多個處理器芯片與存儲器集成。
結構類型 | 核心特點 | 主要應用 |
2.5D 封裝 | 使用硅中介層,高帶寬,異構集成,熱管理相對容易 | HPC, AI加速器, FPGA(配合HBM) |
3D 堆疊封裝 | 芯片垂直堆疊+TSV,極致帶寬和密度,最大小型化,熱挑戰大 | HBM內存, 3D NAND, 高性能邏輯芯片堆疊 |
扇出型封裝 | 無TSV,通過RDL互連,成本較低,I/O數量多,易于異質集成 | 移動SoC, 射頻模塊, 物聯網芯片 |
未來趨勢:
混合鍵合(Hybrid Bonding): 用銅-銅直接鍵合取代微凸塊,實現更小的間距、更高的密度和更佳的能效,如臺積電的SoIC技術。
光互連: 在封裝內引入硅光技術,用光代替電進行數據傳輸,以突破“功耗墻”和“帶寬墻”。
芯粒(Chiplet): 3D封裝是芯粒模式得以實現的物理基礎。通過將大SoC拆分成多個小芯片(Chiplet),再用2.5D/3D技術集成,可以大幅提升良率、降低開發成本并加快上市時間。
3D封裝已經從一項前沿技術發展成為推動整個半導體產業繼續向前發展的關鍵引擎,其應用范圍必將從高端領域逐步擴展到更廣泛的市場。
水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環境中的濕氣,通電后發生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。
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